تصفیه پساب حاوی اسید استیک و اسید ترفتالیک با استفاده از فرآیندهای حذف فوتوکاتالیستی توسط نانوذرات tio2 و zno و نانوفیلتراسیون

در این پژوهش حذف اسید ترفتالیک با استفاده از فرآیند-های فوتوکاتالیستی و نانوفیلتراسیون و هم چنین حذف فوتوکاتالیستی هم زمان اسید ترفتالیک و اسید استیک از محیط آبی به عنوان دو ماده ی پر مصرف در صنایع مختلف پتروشیمی مورد بررسی قرار گرفته است. این در حالی است که در حذف فوتوکاتالیستی اسید ترفتالیک از نانوذرات tio2و zno و در حذف فوتوکاتالیستی هم زمان اسید ترفتالیک و اسید استیک از نانوذرات zno استفاده شده و هر دو فرآیند حذف در حضور پرتو های uv انجام گردیده است. با توجه به نتایج حاصل شده از حذف فوتوکاتالیستی اسید ترفتالیک، زمان بهینه ی حذف برابر 90 دقیقه و phبهینه ی محلول با استفاده از نانوذرات tio2و znoبه ترتیب 4 و 9 به دست آمد. هم چنین در حذف فوتوکاتالیستی هم زمان اسید ترفتالیک و اسید استیک که فرآیند حذف آن در 60 دقیقه انجام شده است،ph بهینه ی محلول 6/5 می باشد. هر کدام از فرآیندهای حذف فوتوکاتالیستی در غلظت های 1200، 1600 و ppm 2000 از نانوذرات و در دماهای 25، 45 و 65 درجه ی سلسیوس با استفاده از طراحی آزمایش به روش سطح پاسخ نوع طراحی مرکب مرکزی صورت گرفته و اثر غلظت کاتالیست و دما به عنوان فاکتورهای تأثیرگذار مورد بررسی واقع شده است. مدل ارائه شده توسط نرم افزار برای هر کدام از فرآیندهای حذف فوتوکاتالیستی، یک مدل درجه دوم است. در ضمن مدل سینیتیکی شبه درجه اول به طور مناسب داده های سینیتیکی جذب را برای هر کدام از حالت های در نظر گرفته شده پیش بینی می کند. بالاترین درصد حذف برای اسید ترفتالیک با غلظت اولیه ی ppm17 در شرایط بهینه و در دمای 45 درجه ی سلسیوس با استفاده از نانوذراتtio2 در غلظت ppm1600، 9/97 درصدو در غلظت های 1200 و ppm 2000 از نانوذراتznoبه ترتیب در دماهای 45 و 25 درجه ی سلسیوس ، 100 درصد به دست آمد. هم چنین بالاترین درصد حذف فوتوکاتالیستی هم زمان اسید ترفتالیک ppm 17 و اسید استیک ppm 400 در شرایط بهینه، برای اسید ترفتالیک و اسید استیک به ترتیب در غلظت های 2000 و ppm 1600 از نانوذرات zno و در دماهای 45 و 65 درجه ی سلسیوس ، 95/68 و 68/39 درصد حاصل شد. ?